AFD系列管式炉以进口高温电阻丝、硅碳棒、硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和宇电32段程序控温系统,可控硅控制,炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料,能快速升温,可通气氛和抽真空。温场均衡性高、表面温度低、升降温速率快、节能等优点。有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、多温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校,科研院所,工矿企业等实验和小批量生产之用。
AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构,炉膛材料采用高纯氧化铝,壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃,内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围:
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,应用于高、中、低温CVD工艺,如碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜,金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
采用宇电全智能16段或32段PID控制温控仪,温控仪是双行LED显示表盘,主要用于控温,反应灵敏,编程16或32段自动升温,保温,降温温度曲线,无人职守,PID控制,带有偏差,超温断电报警等功能,使任试验或实验的一致性和再现性成为可能。具有自动恒温及时间控制功能,并附设有二级超温自动保护功能,控制可靠,使用安全.
管式炉的特性:
1.节能效果是旧式电炉80%之上。
2.控温精度:±1℃,恒温精度:±2℃。
3.节能隔热保温性能好。
4.全智能控制,可编程控制器,自动式升温/降温。
5.可加多种气体(氧气、氮气、氢气、氩气等)。
6.真空度:0.01至-0.1(MPa)使熄灭的物体在没有杂质的状况下熄灭。
7.操作简单,编写好程序就行快捷升温、降温。
管式炉作为热处置实验用的加热炉,极大水平的满足了一些需求氛围维护的工件的实验。但是随着行业需求的不时变化,管式炉在将来也将不时的更新开展。更好的满足客户的需求。