中牟县高温真空管式炉 温度范围大

河南奥菲达仪器设备有限公司

管式炉主要运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，磨具等行业，测定材料在一定气温条件下的设备。炉型结构简单，操作容易，便于控制，能连续生产。
管式炉均系采用国际技术研制开发的高性能高节能的新型电炉，有、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。
PECVD系统 等离子体化学气相沉积系统
窗体底端
PECVD系统
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法。
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

供应管式炉可配高低真空系统
产品用途：主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。
控制方式
模糊PID控制和自整定调节功能；智能化30段可编程控制。
密封方式不锈钢密封法兰。（包括针型阀、指针式真空压力表、软管接头）
控温精度±1℃
工作温度温度1200℃，连续工作温度≤1100℃
可充气氛氮气、氩气及其它惰性气体；通纯氢需配置自动点火装置（另购）
操作安全开门断电、**温报警、漏电保护功能
质量保证质保期1年，相关耗材除外，如加热元件易耗材等。

炉膛规格 炉膛尺寸 使用温度（℃） 功率（KW）
AFD-2-12 Φ40*1000 1100 2
AFD -4-12 Φ60*1000 1100 4
AFD -6-12 Φ80*1000 1100 6
AFD -4-14 Φ40*1000 1350 4
AFD -6-14 Φ60*1000 1350 6
AFD -8-14 Φ80*1000 1350 8
AFD -6-16 Φ40*1000 1600 6
AFD -8-16 Φ60*1000 1600 8
AFD -10-16 Φ80*1000 1600 10

是一种实验室设备,适用于金属，纳米，单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空下的气体保护下，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。采用国际技术，开发研制的节能环保电炉，管式炉有单管、双管、卧式、可开启式管式实验电炉。如要通各种气体也可以也可配备气体控制柜。
管式炉适用于工矿企业、大专院校，科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。
管式电炉产品描述
1.1本款管式炉以硅碳棒、硅钼棒或者电阻丝为加热元件，温度一般在1200度以上采用刚玉管。（注：1200度以下也可使用）
1.2采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，
1.3炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
1.4采用技术，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。
1.5具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。